硅基蒸镀设备
应用场景:适用于AR/VR近眼显示、智能穿戴等Micro OLED面板量产
产品应用
– 基板尺寸8英寸和12英寸
– Cluster Type
– 标准化
– 模块化
– 成膜均匀性高
– 光学对位
– 运营稳定
技术优势
– CCD高精密对位技术
– 模块化设计,可以满足客户多样化定制需求
– 高信赖性,可实现长时间稳定稼动生产
硅基蒸镀设备 | 规格参数 |
---|---|
基板 | 8英寸 or 12英寸 wafer |
生产节拍 | 最快5分钟 (区分镀层) |
生产时间 | ≥144小时 |
膜厚均匀性:有机材料 | ≤2% (片内);≤3%(片间) |
膜厚均匀性:金属材料 | ≤3% (片内);≤2%(片间) |
速率稳定性(0.01?/s- 3?/s)有机材料 | Host ≤±2%,@1.0?/s |
速率稳定性(0.01?/s- 3?/s)Dopant | ≤±3%,@0.01?/s |
速率稳定性(0.01?/s- 3?/s)金属材料 | ≤±2%,@1.0?/s;≤±3%,@0.01?/s |
光学对位 | ≤±3μm(CCD) |
系统控制 | 控制系统PLC,PC (GUI S/W) |